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Procédés chimiques de dépôt à partir d'une phase gazeuse / Yves Pauleau
Titre : Procédés chimiques de dépôt à partir d'une phase gazeuse Type de document : texte imprimé Auteurs : Yves Pauleau (1942-....), Auteur Editeur : Paris : Hermès science publications Année de publication : 2004 Importance : 415 p. Présentation : ill. Format : 24 cm ISBN/ISSN/EAN : 2-7462-0948-9 Prix : 95 EUR Note générale : Éditeur : Hermes Science Publications (12 juin 2004)
Langue : Français
Broché : 415 pages
ISBN-10 : 2746209489
ISBN-13 : 978-2746209480
Poids de l'article : 599 g
Dimensions : 16 x 24 cmLangues : Français (fre) Mots-clés : procédés thermiquement actives régimes écoulement gazeux cinétique de croissance influence du transfert dépot sélectif Index. décimale : 660 Génie chimique technologies connexes Résumé : Cet ouvrage traite des procédés de dépôt de couches minces et de revêtements de surface par réaction chimique à partir d'une phase gazeuse. Ces procédés CVD (Chemical Vapor Deposition) sont utilisés au niveau industriel pour la fabrication des dispositifs semi-conducteurs (circuits intégrés) ou la production de revêtements protecteurs (anti-usure, anti-corrosion, antifrottement). Ce livre est constitué de trois parties principales traitant chacune d'une famille particulière de procédés qu'on peut distinguer suivant le mode d'activation de la réaction chimique mise en jeu : activation thermique, activation par plasma (plasma-enhanced CVD) et activation par un faisceau de photons (procédés photo- CVD et laser-induced CVD). Le contenu de cet ouvrage intéresse le personnel technique, les ingénieurs et chercheurs qui travaillent dans le secteur recherche et développement ainsi que dans le secteur production de couches minces ou de revêtements de surface. Les étudiants d'IUT et d'écoles d'ingénieurs trouveront également les principes, les modèles et les principales données fondamentales concernant les procédés CVD couramment utilisés au niveau industriel. Note de contenu : Bibliogr. p. 403-411. Index Procédés chimiques de dépôt à partir d'une phase gazeuse [texte imprimé] / Yves Pauleau (1942-....), Auteur . - Paris : Hermès science publications, 2004 . - 415 p. : ill. ; 24 cm.
ISBN : 2-7462-0948-9 : 95 EUR
Éditeur : Hermes Science Publications (12 juin 2004)
Langue : Français
Broché : 415 pages
ISBN-10 : 2746209489
ISBN-13 : 978-2746209480
Poids de l'article : 599 g
Dimensions : 16 x 24 cm
Langues : Français (fre)
Mots-clés : procédés thermiquement actives régimes écoulement gazeux cinétique de croissance influence du transfert dépot sélectif Index. décimale : 660 Génie chimique technologies connexes Résumé : Cet ouvrage traite des procédés de dépôt de couches minces et de revêtements de surface par réaction chimique à partir d'une phase gazeuse. Ces procédés CVD (Chemical Vapor Deposition) sont utilisés au niveau industriel pour la fabrication des dispositifs semi-conducteurs (circuits intégrés) ou la production de revêtements protecteurs (anti-usure, anti-corrosion, antifrottement). Ce livre est constitué de trois parties principales traitant chacune d'une famille particulière de procédés qu'on peut distinguer suivant le mode d'activation de la réaction chimique mise en jeu : activation thermique, activation par plasma (plasma-enhanced CVD) et activation par un faisceau de photons (procédés photo- CVD et laser-induced CVD). Le contenu de cet ouvrage intéresse le personnel technique, les ingénieurs et chercheurs qui travaillent dans le secteur recherche et développement ainsi que dans le secteur production de couches minces ou de revêtements de surface. Les étudiants d'IUT et d'écoles d'ingénieurs trouveront également les principes, les modèles et les principales données fondamentales concernant les procédés CVD couramment utilisés au niveau industriel. Note de contenu : Bibliogr. p. 403-411. Index Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité ST10103 660/112.1 Ouvrage Faculté des Sciences et de la Technologie 600 - Technologie (Sciences appliquées) Exclu du prêt